低溫恒溫反應槽（-20℃～90℃）可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用

產品特點

> 精密恒溫控制系統(tǒng)，恒溫波動度±0.05℃；

> 9點溫度校準和單點溫度校準，溫度數據更可靠；

> 壓縮機，噪音低，制冷效率高；

> 制冷相關配件采用進口品牌，性能穩(wěn)定且壽命長；

> 制冷系統(tǒng)具備高壓保護器，確保制冷系統(tǒng)安全；

> 全封閉磁力泵循環(huán)攪拌，溫場均勻，免除泄露和異常噪音；

> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；

應用范圍

樣品保存、分析測試、石油、化工、電子儀表、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等行業(yè)等

可選附件

> 可選程序化溫度控制，可對控溫范圍內的溫度做程序化要求，實現曲線溫度控制；

> 可選配RS485通訊接口；

> 可選配嵌入式不銹鋼蓋，用于更緊湊的空間需求；

> 可選配SUS304液槽隔板；

安全保護裝置

> 具有斷電記憶功能；

> 溫度上下限制保護和報警功能；

技術參數

低溫恒溫反應槽（-20℃～90℃）

備注：低溫恒溫循環(huán)槽所有技術參數均為標準配置參數，涉及溫度波動度、壓力、流量、制冷功率、加熱功率等詳細技術參數也可以向相應經銷商或者廠家索??；若客戶對設備壓力、流量、外循環(huán)等特別要求或高精度恒溫控制，我公司可以根據實際的需求做非標定制化處理。

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